半导体超纯水设备的价格为何会有很大的差别？（半导体 超纯水）

半导体超纯水设备的价格为何会有很大的差别？

  当前国内半导体行业应用的超纯水设备一般有前端预处理及RO、EDI提纯等工序。1. 超纯水设备是半导体行业应用较为广泛的预处理工序,一般有前端清洗、反渗透提纯等工艺环节。由于前置膜系统具有较高的产水量和高回收率(可达98%以上),。

  RO装置是一种将废水通过化学氧化、还原作用除去污染物的水质分离设备;该装置主要由一级多介质过滤器、二级多介质过滤器(又称活性炭)以及三段串联的离子交换树脂单元组成。前级多介质过滤器的滤芯采用不锈钢制成;多介质过滤器的过滤精度一般为3~5μm;多介质过滤器的滤芯材质一般为Cr6+;第四段多介质过滤器滤芯材料一般为聚四氟乙烯制作而成。

  目前市场上用于半导体行业的除盐技术主要分两个部分:一是在EDI膜上使用反渗透膜进行脱盐后再用EDI膜作为电去离子的出水源;二是在EDI模块中用电阻丝代替EDI膜来完成淡化过程。EDI模块的结构与传统单一电源供电相似,但它也兼作离子交換柱的作用。其缺点是不经济且不耐高压及容易发生短路现象,会造成二次污染。

半导体 超纯水

   纯水/超纯水系统

  一、概况:

  超纯水用于半导体生产过程中,其应用领域主要有:集成电路芯片的清洗;光刻胶片的浓缩和封装等。

  二、技术优势:

  1、采用全自动反渗透膜(EDI)工艺流程,操作简单,能耗低;

  2、采用先进的膜过滤原理及设计,可实现全量回收,产水量大。

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  三、适用范围

  、微生物菌群的去除。

  、亚硝酸盐、硫酸根、磷铵基等金属离子的去除。

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  、显像管厂、液晶显示器厂的高盐度废水治理,对COD、BOD也有很好的去除效果。

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